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半導體晶體非接觸式測厚儀

訪問次數(shù):1125

更新日期:2024-03-20

簡要描述:

日本sasaki koki半導體晶體非接觸式測厚儀OZUMA22
OZUMA 更新了用于半導體晶片(Si 硅晶片、GaAs、砷化鎵 Ga)、砷(As)、玻璃、金屬等的高精度非接觸式厚度測量裝置(非接觸式厚度測量裝置) . 非接觸式測厚儀OZUMA22用于控制半導體晶片(Si硅晶片、GaAs、鎵(Ga)砷(As))在背面拋光過程中,或在每個制造過程中的厚度(厚度)??捎糜冢ê穸龋┛刂频姆墙佑|式測量。

半導體晶體非接觸式測厚儀
類型數(shù)字式測量范圍1

日本sasaki koki半導體晶體非接觸式測厚儀OZUMA22

<用途>

 

半導體(各種材料)的晶片硅Si.GaAs砷化鎵等,玻璃,金屬,化合物等的高精度非接觸式厚度測量(非接觸式厚度測量)

 

<功能>

 

1. 1??梢酝ㄟ^空氣背壓法進行非接觸式厚度測量(非接觸式厚度測量),并且不會造成刮擦和污染等損壞
??梢暂p松進行高精度的非接觸式厚度測量(非接觸式厚度測量),而無需依賴諸如薄膜和彩色光澤之類的材料
。潮濕時可以進行高精度的非接觸式厚度測量(非接觸式厚度測量)
。即使鏡面透明或半透明,也可以毫無問題地進行高精度的非接觸式厚度測量(非接觸式厚度測量)
。由于使用上下測量噴嘴進行測量,因此
   可以精確地測量“厚度”,而不受測量對象“打滑”引起的提升的影響。
 ?。ㄒ部梢赃x擇“滑行”測量(* 1))
6。由于操作簡便,因此可以非常輕松地進行測量和校準(* 2)。

<測量原理>

精確控制上下測量噴嘴的背壓,對噴嘴進行定位,使噴嘴和被測物體之間的間隙保持恒定,并使用預先用基準量規(guī)校準的值進行比較計算處理。對被測物進行測量操作,可以精確計算出厚度。

日本sasaki koki半導體晶體非接觸式測厚儀OZUMA22

<性能>

  分辨率0.1μm
  重復精度10次重復測量時的標準偏差(1σ)0.3μm以下
  z大測量范圍 10mm(* 3)
  供應能源電源AC100V 50 / 60Hz 3A
            清潔空氣0.4MPa 20NL /分鐘(* 4)

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