引言
電子材料(如鋰電漿料、導(dǎo)電膠、半導(dǎo)體封裝材料)的分散均勻性直接影響產(chǎn)品性能。傳統(tǒng)攪拌設(shè)備難以兼顧納米級分散與規(guī)模化生產(chǎn),而石川擂潰機(jī)通過杵臼式剪切+可控溫/真空系統(tǒng),成為從研發(fā)到量產(chǎn)的理想選擇。本文解析其技術(shù)原理,并對比不同型號的適用場景。
單杵 vs 雙杵:
單杵(D101S/D16S)適合低粘度漿料(如PVDF-NMP溶液),溫和剪切避免材料損傷;
雙杵(D18S/D22S)通過對稱擠壓破碎團(tuán)聚顆粒,適合高粘度漿料(如鋰電電極材料)。
轉(zhuǎn)速可調(diào)(8-50rpm):低速避免氣泡生成,高速提升分散效率。
真空脫氣(選配):D18S/D22S可減少漿料孔隙率,提升電子封裝膠的致密性;
氣氛保護(hù):氬氣環(huán)境處理敏感材料(如硫化物固態(tài)電解質(zhì));
溶劑安全系統(tǒng)(D20S):防爆設(shè)計(jì)適配丙酮、NMP等有機(jī)溶劑。
微量研發(fā)(0.03L微型機(jī))→ 小試(0.2-0.4L)→ 中試(1-2L)→ 量產(chǎn)驗(yàn)證(4L),避免放大效應(yīng)導(dǎo)致的工藝失效。
問題:電極材料(如LFP、NCM)易團(tuán)聚,影響電池能量密度。
解決方案:
研發(fā)階段:D16S優(yōu)化漿料配方(固含量60%,粘度15,000cP);
量產(chǎn)前:D22S真空處理,漿料電阻率降低18%。
問題:環(huán)氧樹脂填料沉降導(dǎo)致導(dǎo)熱不均。
解決方案:D20S雙杵捏合+溶劑系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)SiO?填料均勻分散(粒徑D50≤1μm)。
案例:D18S在氮化鋁(AlN)漿料中實(shí)現(xiàn)92%分散效率,優(yōu)于球磨機(jī)(75%)。
需求場景 | 推薦型號 | 關(guān)鍵優(yōu)勢 |
---|---|---|
納米材料微量研發(fā) | 微型型 | 0.03L超小量,減少珍貴材料浪費(fèi) |
低粘度漿料小試 | D101S | 低成本,適合PVDF等溶液體系 |
高粘度漿料中試 | D18S | 雙杵+真空,孔隙率<0.5% |
溶劑型漿料安全處理 | D20S | 防爆設(shè)計(jì),符合OSHA標(biāo)準(zhǔn) |
量產(chǎn)前穩(wěn)定性驗(yàn)證 | D22S | 4L大容量,功率200W,接近產(chǎn)線條件 |
智能化控制:接入PLC系統(tǒng),實(shí)時(shí)監(jiān)測粘度、溫度等參數(shù);
納米級分散升級:結(jié)合超聲輔助(如D22S+超聲模塊);
綠色工藝:無水清洗設(shè)計(jì),減少溶劑消耗。
結(jié)語
石川擂潰機(jī)通過模塊化設(shè)計(jì)(杵數(shù)/容量/功能可選)和工藝適配性,成為電子材料分散的“全流程工具"。