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反射箔的發(fā)射率測量技術介紹

  • 發(fā)布日期:2023-12-16      瀏覽次數:380
    • 反射箔的發(fā)射率測量技術介紹

      測量低發(fā)射率箔片總近法向發(fā)射率的程序,使最終用戶能夠使用積分球裝置或全半球近法向反射計對發(fā)射率低于0.1的不確定度低于0.03的反射箔片進行發(fā)射率測量。

      本良好實踐指南的目的是為最終用戶提供以下建議和程序:使用商用TIR100-2發(fā)射儀或與傅立葉變換光譜儀相關的紅外積分球,對不確定度低于0.03的反射箔(發(fā)射率<0.1)進行總近法向發(fā)射率測量,-測定反射率低于0.05的反射箔(發(fā)射率<0.1)的半球總發(fā)射率。在歐盟,最終用戶主要用于測量反射箔發(fā)射率的設備是與FTIR光譜儀和INGLAS公司的反射計TIR100-2相關的積分球。在EMIRIM項目中對這兩種測量技術進行了詳細的研究,并對它們在測定低發(fā)射率反射片總半球發(fā)射率方面的性能進行了量化。

      積分球的一般原理

      樣品近法向光譜發(fā)射率的測量:測量原理見Erreur!入射輻射束(光譜調制)由FTIR光譜儀產生。積分球用于收集樣品表面反射的輻射,無論反射的擴散是否有規(guī)律。入射光束相對于樣本表面的法線略微傾斜,

      因此反射的鏡面分量總是由積分球收集。由于樣品反射的輻射在積分球上的多次反射,積分球方法原則上對樣品上反射的角度分布不敏感,并且檢測器測量的信號與樣品的反射率成比例。

      必須使用在接近正常光譜反射下校準的樣品對系統(tǒng)進行校準;

      image.png

      校準標準

      對于低發(fā)射率箔片的發(fā)射率測量,建議使用鏡面低發(fā)射率標準(鏡子)。標準的校準應可追溯到SI(國際單位制),標準的總近法向發(fā)射率的擴展不確定度應約為0.02(k=2)。

      測試的樣品

      如果測試的反射箔是透明的或有孔(例如水蒸氣滲透性),則在測量過程中,應放置一個高發(fā)射率不透明表面,使其與箔的背面接觸。這種配置更好地代表了在隔熱系統(tǒng)中使用大多數反射箔的實際配置,

      通常在箔后面有高發(fā)射率材料。

      帶“單光束替代誤差"校正的測量序列的描述

      對于積分球,當高反射校準參考樣品被另一個樣品代替時,由積分球壁組成的空腔、開口和從球體內部可見的樣品表面的平均反射率發(fā)生變化。因此,對積分球系統(tǒng)的輻射測量靈敏度進行了修正。

      輻射測量靈敏度的這種修改通常是重要的,必須考慮到這一點才能無誤地計算樣品的光譜反射率。靈敏度隨樣品反射率(發(fā)射率)變化產生的誤差稱為“單光束樣品吸收誤差"[1]或“單光束替代誤差[2]。圖2顯示了反射率測量的不同配置,并對“單光束替代誤差"進行了系統(tǒng)校正。

      TIR100-2型是一種緊湊型手持分析儀器,采用的是一種無損技術,測量每秒內的熱發(fā)射率。

      測量一個錫箔

      國際公路貨運公司是在德國制造的。

      TIR100-2型的特點

      • 數秒鐘內完成的測量

      • 通過易于使用的觸摸屏操作和結果

      • 高測量精度和重復性

      • 測量樣品保持在常溫下

      • 可在現場或實驗室使用的便攜式裝置


    聯系方式
    • 電話

    • 傳真

    在線交流