hamanano靜電點(diǎn)膠/圖案化技術(shù)交流分析

發(fā)布日期：2023-11-15      瀏覽次數(shù)：394

hamanano靜電點(diǎn)膠/圖案化技術(shù)交流分析

可對高粘度溶液進(jìn)行圖案化

　我們的靜電點(diǎn)膠技術(shù)可以點(diǎn)膠 pL 至 fL 量級(jí)的微量，而這對于傳統(tǒng)方法（噴墨等）來說是困難的。它還可以應(yīng)用于樹脂和甘油等高粘度樣品，這些樣品迄今為止無法制成細(xì)小液滴。此外，它不僅可以應(yīng)用于導(dǎo)電材料，還可以應(yīng)用于玻璃等絕緣基板。

　通過結(jié)合靜電點(diǎn)膠技術(shù)和 XY 移動(dòng)平臺(tái)，可以對各種微滴進(jìn)行圖案化。配備了“橫向靜電點(diǎn)膠/圖案化裝置"和落射照明顯微鏡，可以一邊觀察從噴嘴前端到工件的靜電吸附，一邊判斷液滴的形成條件。各種各樣的變化，包括“外延觀察圖案形成裝置"，該裝置將液滴直接滴到可見區(qū)域上，同時(shí)從基板上方實(shí)時(shí)觀察它們。僅對于側(cè)式靜電點(diǎn)膠和圖案化設(shè)備，可以選配可控制滴注環(huán)境溫度和濕度的外部腔室。




應(yīng)用示例：

● 可打印電子產(chǎn)品（包括3D）

● 線路維修

● 化學(xué)傳感器制造

● 小部件的樹脂密封

● 提供局部電氣絕緣

● 3D設(shè)備的原型制作

●功能型樣板制作

● 使用Pd納米粒子的局部化學(xué)鍍

● 抗蝕劑材料的局部涂敷

● 生物芯片生產(chǎn)

● 發(fā)光面、發(fā)電面輔助布線

● 透鏡遮光部的形成

● 接收天線制造

● 將試劑局部涂抹到活體組織上

● 制造納米線



側(cè)面觀察式靜電點(diǎn)膠圖案化裝置(ODS-P系列)

品液體的介電常數(shù)


　由于該裝置利用被稱為“靜電感應(yīng)"的物理現(xiàn)象，因此優(yōu)選具有高介電常數(shù)（10或更高）的樣品液體。這里所說的介電常數(shù)是指“樣品液體的平均介電常數(shù)"，包括溶劑中含有的顆粒和溶解物質(zhì)。為了供您參考，我們僅列出了溶劑的介電常數(shù)。