光學(xué)元件拋光不均勻檢測用光源介紹
高亮度鹵素光源裝置是用于宏觀觀察的照明裝置,用于檢測終成品表面上的各種缺陷,如異物、劃痕、拋光不均勻、霧度、滑移等,是加工過程中勞動強度的一種。半導(dǎo)體晶片和液晶基板的加工。
1. 樣品表面可照射到 400,000 Lx 以上。
2、由于采用鹵素?zé)糇鳛楣庠?,色溫高,光照不均勻少,光?/span>
非常穩(wěn)定銳利。
3、采用冷鏡,熱量的影響極小
,僅為傳統(tǒng)鋁鏡的1/3。
4. 兩段式切換機構(gòu),一
鍵切換強光觀察和弱光觀察。
YP-150I ? ? ? 照度范圍 φ30
YP-250I ? ? ? 照度范圍 φ60
?。╕P-250I 可以從螺旋槳風(fēng)扇型和管道風(fēng)扇型中選擇。)
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